Minħabba li l-molibdenu għandu l-karatteristiċi ta 'punt ta' tidwib għoli, konduttività elettrika għolja, impedenza speċifika baxxa, reżistenza tajba għall-korrużjoni, u protezzjoni ambjentali,miri tal-molibdenujintużaw ħafna fl-industrija tal-elettronika, bħal elettrodi għal wirjiet ta 'panew ċatt, ċelloli solari b'film irqiq, u aċċessorji. Informazzjoni tal-linja, issa ħalli Xiaobian u taf dwar il-karatteristiċi tal-miri tal-molibdenu fil-prodotti tat-tungstenu u tal-molibdenu.
1. Mira tal-molibdenu ta 'purità għolja
Ġeneralment, il-purità tal-mira ta 'sputtering tal-molibdenu għandha tkun mill-inqas 99.95 fil-mija. Madankollu, bit-titjib kontinwu tad-daqs tas-sottostrati tal-ħġieġ fl-industrija LCD, u skont id-daqs tas-sottostrati tal-ħġieġ sputtered u l-ambjent tal-applikazzjoni, il-purità tal-miri ta 'sputtering tal-molibdenu hija meħtieġa li tkun 99.99 fil-mija -99. 999 fil-mija jew saħansitra ogħla.
2. Mira tal-molibdenu ta 'densità għolja
Fil-proċess ta 'kisi ta' sputtering, meta l-mira ta 'sputtering b'densità baxxa tiġi bbumbardjata, minħabba r-rilaxx f'daqqa ta' gass eżistenti fil-pori tal-materjal fil-mira, partiċelli jew partiċelli fil-mira fuq skala kbira huma ffurmati għal titjir, jew il-materjal tal-film huwa suġġett għal ħsara sekondarja wara l-formazzjoni tal-film. Il-bumbardament tal-elettroni sekondarju jifforma tixrid ta 'partiċelli, li l-preżenza tagħhom tista' tiddegrada l-kwalità tal-film. Sabiex jitnaqqsu l-pori fis-solidu tal-materjal fil-mira u jtejbu l-prestazzjoni tal-film, il-materjal tal-mira sputtering huwa ġeneralment meħtieġ li jkollu densità ogħla.
3. Daqs tal-qamħ
Ġeneralment, il-mira tal-molibdenu sputtering għandha struttura polikristallina, u d-daqs tal-qamħ jista 'jvarja minn mikrometri għal millimetri. Studji sperimentali wrew li r-rata ta 'sputtering tal-mira tal-qamħ tal-molibdenu fuq skala mikro hija aktar mgħaġġla minn dik tal-qamħ oħxon, u l-mira b'differenza iżgħar fid-daqs tal-qamħ tal-molibdenu għandha distribuzzjoni tal-ħxuna aktar uniformi tal-film depożitat.
4. Direzzjoni tal-kristallizzazzjoni
Peress li l-atomi tal-mira huma sempliċiment sputtered fid-direzzjoni ta 'arranġament strett eżagonali ta' atomi waqt sputtering, sabiex tinkiseb ir-rata ta 'sputtering, ir-rata ta' sputtering ħafna drabi tiżdied billi tinbidel l-istruttura tal-kristall tal-mira. Id-direzzjoni kristallografika tal-mira għandha wkoll influwenza kbira fuq l-uniformità tal-ħxuna tal-film sputtered. Għalhekk, il-kisba ta 'struttura fil-mira b'ċerta orjentazzjoni kristallografika hija kruċjali għall-proċess ta' sputtering ta 'films irqaq.
5. Konduttività termali
Il-manifatturi tal-prodotti tat-tungstenu u tal-molibdenu jgħidulek li l-mira tal-molibdenu sputtering għandha tkun imqabbda max-chassis ta 'ram mingħajr ossiġnu (jew materjali oħra bħall-aluminju) qabel sputtering sabiex il-konduttività termali bejn il-mira tal-molibdenu u x-chassis tkun tista' tiġi garantita matul il-proċess ta' sputtering. Wara l-irbit, huwa meħtieġ li tgħaddi spezzjoni ultrasonika biex tiżgura li ż-żona mhux imwaħħla tat-tnejn tkun inqas minn 2 fil-mija, sabiex tissodisfa r-rekwiżiti ta 'sputtering ta' qawwa għolja mingħajr ma taqa '.
6. Prestazzjoni fil-mira tal-molibdenu
Purità: molibdenu pur Akbar minn jew ugwali għal 99.95 fil-mija, molibdenu b'temperatura għolja Akbar minn jew ugwali għal 99 fil-mija (żid elementi ta 'art rari)
Densità: Akbar minn jew ugwali għal 10.2g/cm3
Punt tat-tidwib: 2610 grad
Speċifikazzjonijiet: mira tonda, mira tal-pjanċa, mira li ddur
L-ambjent adattat għall-mira tal-molibdenu prodotta minn Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. huwa ambjent vakwu jew ambjent ta 'protezzjoni tal-gass inert. Il-kontenut tal-molibdenu pur fil-prodotti tal-molibdenu li nipprovdu huwa għoli, ir-reżistenza għat-temperatura għolja hija 1200 grad, u r-reżistenza għat-temperatura għolja tal-liga tal-molibdenu hija 1700 grad. Il-miri tal-molibdenu prodotti mill-kumpanija tagħna huma ta 'kwalità għolja, prezz raġonevoli, u twassil veloċi.
